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好消息!国产光刻胶通过国家验收中芯国际的机会来了
来源:kok平台 | 作者:kok平台买球赛hiveyan | 发布时间: 2021-08-06 22:21:43 | 13 次浏览 | 分享到:

  我国正在加大半导体产业的布局,人才,设备以及材料等方面都取得不错的进展。比如在人才方面,北京大学,清华大学等高校建立了集成电路学院,专门为国产集成电路领域培养大批优秀的人才。

  还有在设备这一块,至纯科技的28nm湿法工艺设备已完成全部认证,在对应的28nm成熟芯片上,可以进行硅片清洗。人才,设备都有了,半导体光刻胶材料也传来了好消息。

  国产光刻胶的主力企业集中在南大光电身上,南大光电掌握成熟的ArF光刻胶产品,并且在55nm工艺领域已经拿到小批量订单。

  不过南大光电又取得ArF光刻胶进展,包括成熟工艺,先进7nm的光刻胶产品开发和生产线,都通过了国家验收,得到专家组的高度认可。

  南大光电的这项突破是出乎意料的,能够通过国家级的验收认证,很大程度上说明南大光电的实力取得了重大进步。

  有关注的人或许会知道,去年12月份南大光电通过客户验证的55nm闪存产品,但此次在7nm制程领域,也能实现产业链供给。

  在芯片制造行业内,不仅需要光刻机设备的支持,还离不开光刻胶材料的辅助。通过光刻胶,可以使半导体表面得到所需的图像,并强化芯片集成电路抗腐蚀能力。作为芯片生产必不可少的涂抹材料,品质高的光刻胶可以生产出更高端的芯片。

  南大光电的ArF光刻胶可以对应高端7nm制程,对正在发展7nm的中芯国际来说,无疑是一次难得的机会。

  国内大部分的光刻胶都需要向日本进口,一旦对方停止供应,国内半导体芯片制造产业可能会面临停摆。但有了南大光电的验收突破,中芯国际的机会来了。

  首先中芯国际可以向国产厂商采购国产高端光刻胶,建立自主化供应链体系。避免国外技术的使用,可能进一步提升行业话语权。

  其次中芯国际有望快速发展先进芯片技术,尤其是在7nm制程。根据中芯国际联合CEO梁孟松透露,已经攻克到7nm技术了。

  不过由于高端光刻机难以采购,暂时还无法量产。尽管如此,提前布局7nm光刻胶材料也是至关重要的。等未来高端光刻机有望到货,配合南大光电国产7nm光刻胶的使用,一定能让国产芯片取得重大突破。

  在南大光电国产光刻胶通过国家验收的同时,其实也迈出了打破垄断的重要一步。日本在全球光刻胶市场掌握垄断地位,就连全球第一大芯片代工厂台积电,也需要向日本采购高端品质的光刻胶。

  在全球缺芯的背景下,日本曾断供光刻胶。虽然是产能不足导致断供,但也影响了国产晶圆制造商的正常运作。

  由此可见,掌握国产化光刻胶产业链有多少重要,除了南大光电,还有晶瑞股份,上海新阳等国产企业,也参与国产光刻胶的研发,生产。有这些巨头在,打破国外垄断势在必行。

  中芯国际届时很可能加强芯片的国产化率,仅掌握制造技术还不够,还需要在设备,材料等领域,都拥有国产替代的水准。

  国产半导体产业迎来高速发展阶段,各大领域都有了相应的突破。人才培养,各类半导体设备通过验证,还有南大光电的国产光刻胶也通过国家验收,未来有望用于7nm高端制程工艺。

  这些发展突破对国产芯片都是至关重要的,要想达到70%的芯片自给率目标,就必须有中芯国际,南大光电等国产企业的加入。希望南大光电继续保持,也期待中芯国际能借此迎来崛起的机会。